Bookcover of Nouveau procédé de gravure de précision nanométrique en plasmas H2/He
Booktitle:

Nouveau procédé de gravure de précision nanométrique en plasmas H2/He

Editions universitaires europeennes (2017-02-15 )

Books loader

Omni badge eligible for voucher
ISBN-13:

978-3-639-60758-1

ISBN-10:
3639607589
EAN:
9783639607581
Book language:
French
Blurb/Shorttext:
Pour la réalisation des transistors FDSOI 22 nm et 3D FinFET 10 nm, la gravure de couches ultraminces de quelques nanomètres d’épaisseur doit être réalisée sans endommagement de la couche sous-jacente et n’est plus envisageable avec les procédés reposant sur les plasmas continus à haute densité. Une nouvelle technologie de gravure est étudiée dans cette thèse : elle consiste à modifier la surface d’un matériau sous l’action d’un plasma et à retirer par voie chimique le matériau modifié, sélectivement par rapport au matériau non modifié. Nous nous focalisons ici sur la compréhension de la modification du matériau SiN induite par les plasmas de H2 et He, suivie d’une gravure chimique réalisée en solution de HF. Tout d’abord, un dépôt de conditionnement est développé pour prévenir la dégradation des parois et assurer la reproductibilité du procédé. Des diagnostics en plasmas de H2 et He sont ensuite réalisés pour déterminer la nature des ions, leurs flux et leurs énergies. Enfin la modification du SiN est caractérisée par différentes techniques d'analyse de surface (FTIR, SIMS, TEM).
Publishing house:
Editions universitaires europeennes
Website:
http://www.editions-ue.com/
By (author) :
Jérôme Dubois
Number of pages:
188
Published on:
2017-02-15
Stock:
Available
Category:
Electronics, electro-technology, communications technology
Price:
64.90 €
Keywords:
Gravure, Microélectronique, nanotechnologies, Plasma, Interaction plasma-surface

Books loader

Newsletter

Adyen::amex Adyen::mc Adyen::visa Adyen::cup Adyen::unionpay Paypal Wire Transfer

  0 products in the shopping cart
Edit cart
Loading frontend
LOADING